Nanotec研磨拋光機(jī)

Nanotec研磨拋光機(jī)用于簡(jiǎn)單的薄膜厚度測(cè)量

自動(dòng)拋光機(jī)用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M(jìn)行拋光，并用光學(xué)顯微鏡測(cè)量拋光痕跡。旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠愤M(jìn)行拋光，用光學(xué)顯微鏡測(cè)量拋光痕跡，即可測(cè)出膜厚。

Nanotec研磨拋光機(jī)特點(diǎn)：
無需樣品準(zhǔn)備

橫斷面測(cè)量不需要樣品準(zhǔn)備，如切割、拋光或樹脂嵌入，拍攝的樣品可以按原樣測(cè)量。

可以對(duì)多層薄膜進(jìn)行評(píng)價(jià)

可以通過化學(xué)處理改變膜的成分作為色調(diào)的差異來評(píng)價(jià)各層膜的厚度
可以評(píng)估每層的薄膜厚度

Nanotec研磨拋光機(jī)應(yīng)用：

TiN、CrN、TiAlN、TiCN等，DLC、電鍍、多層膜

通過測(cè)量拋光痕跡的結(jié)果，對(duì)各層涂層的厚度進(jìn)行評(píng)價(jià)，根據(jù)ISO 26423：2009

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) -Determination of coating thickness by crater-grinding method（凹坑研磨法測(cè)定涂層厚度）的計(jì)算方法，計(jì)算涂層厚度。為了使用本試驗(yàn)機(jī)測(cè)量涂層厚度，需要配合使用能夠測(cè)量研磨痕跡的顯微鏡。

Nanotec研磨拋光機(jī)測(cè)厚原理：

首先，加入金剛石漿料，用旋轉(zhuǎn)的鋼球?qū)悠繁砻孢M(jìn)行拋光。接下來，觀察拋光痕跡，測(cè)量上圖中X與Y之間的距離。

根據(jù)測(cè)得的X、Y距離和拋光用球的半徑，用上述公式計(jì)算出膜厚。

Nanotec研磨拋光機(jī)規(guī)格
軸的轉(zhuǎn)速：100～3000轉(zhuǎn)/分
可設(shè)定的旋轉(zhuǎn)時(shí)間：1秒至60分鐘
大樣品尺寸：φ40mm

可選擇增加一個(gè)丙烯酸酯罩。
 

Nanotec研磨拋光機(jī)膜厚測(cè)量實(shí)例：

TiN涂層試樣
- 鋼球的直徑：30毫米
- 電機(jī)轉(zhuǎn)速：400轉(zhuǎn)/分鐘
- 測(cè)試時(shí)間：30秒
- 漿料類型：金剛石漿料1.0μm。